Litokol Primer С-M Грунтовка глубокого проникновения, 10 л.

Litokol Primer С-M 10 л — грунтовка глубокого проникновения для подготовки минеральных оснований перед укладкой керамических, каменных и керамогранитных облицовок на цементные клеевые смеси, штукатурными работами и устройством стяжки. Грунтовка глубокого проникновения. Морозостойкая при транспортировке.

Характеристики:

• Проникает в поверхностные слои основания, укрепляя и повышая их износостойкость;
• Связывает пыль на поверхности основания;
• Регулирует и снижает впитывающую способность оснований;
• Способствует растекаемости самовыравнивающихся смесей;
• Предотвращает преждевременное высыхание цементных клеев при нанесении тонким слоем и способствует набору прочности раствора;
• Повышает адгезию цементных клеев к основанию;
• Снижает расход шпатлевок, красок, улучшает их укрывистость;
• Препятствует химической реакции между гипсо-содержащими основаниями и цементными клеями;
• Быстро высыхает после нанесения на основание, время высыхания 4 часа;
• На водной основе, не содержит растворителей;
• Для внутренних и наружных работ;
• Экологически безопасен.

Сфера применения:

Грунтовка Литокол Primer С-M 10 л предназначена для подготовки минеральных оснований перед:

• укладкой керамических облицовок на цементные клеевые смеси
• штукатурными работами
• нанесением самовыравнивающихся смесей для пола с целью обеспыливания, укрепления и снижения впитывающей способности основания. В этом случае грунтовка наносится в 2 слоя.
• нанесением шпатлевок;
• окрашиванием и оклейкой обоями.

Основания:

Грунтовка Литокол Primer С-M 10 л применяется для подготовки оснований, таких как:

• цементно-песчаные стяжки и штукатурки;
• плотный и гладкий бетон, пено- и газобетон;
• кирпич, шлакоблоки, гипсовые блоки;
• гипсовые стяжки и штукатурки;
• ангидридные основания;
• существующие мозаично-террацевые полы;
• существующие покрытия из натурального камня, керамической плитки, керамогранита;
• панели гипсокартонные, ГВЛ, СМЛ;
• листовые панели на цементной основе, ЦСП, АЦЭИД.